El nuevo pirómetro infrarrojo medio 401M ofrece medición sin contacto de alta precisión y velocidad, con comunicación EtherCAT integrada, para procesos avanzados de epitaxia y deposición en la industria de semiconductores.
El nuevo 401M de Advanced Energy es un pirómetro óptico de infrarrojo medio diseñado para la medición de temperatura sin contacto en entornos de procesos industriales y de semiconductores, ofreciendo un control en bucle cerrado en tiempo real con una precisión y velocidad excepcionales.
Con un tiempo de respuesta de tan solo 1 microsegundo y una precisión dentro de ±3 °C en un rango de temperaturas de 50 °C a 1.300 °C, el 401M garantiza resultados fiables incluso en los entornos más exigentes.
Medición sin contacto con tecnología infrarroja media
La tecnología de infrarrojo medio del 401M resulta idónea para la medición preferencial a través de superficies transparentes o desde el exterior del entorno de proceso, superando las limitaciones de los pirómetros de infrarrojo cercano tradicionales.
Por ello, se convierte en la solución óptima para aplicaciones como la epitaxia calentada por lámpara, los procesos de deposición química en fase de vapor (CVD) y el recubrimiento de vidrio con películas finas, donde la precisión térmica es esencial.
Integración avanzada y arquitectura modular
El pirómetro 401M incorpora comunicación EtherCAT directamente en el hardware, eliminando la necesidad de módulos externos y simplificando la integración en sistemas industriales complejos.
Gracias a su plataforma modular, permite la personalización de parámetros como longitud de onda de medición, rango de temperatura, distancia de trabajo y tamaño de punto, adaptándose a diversas condiciones de deposición y materiales.
Asimismo, incluye ópticas basadas en lentes, corrección térmica ambiental automática, amplias capacidades de entrada/salida y sincronización externa, así como tasas de lectura de hasta 1 kHz, que incrementan la estabilidad y repetibilidad del proceso.
Compatibilidad y rendimiento mejorado
El modelo 401M mantiene compatibilidad con la plataforma existente OR400M, lo que facilita su actualización sin cambios significativos en la infraestructura de control o adquisición de datos.
De este modo, ofrece una mejora significativa en la monitorización térmica de cámaras de proceso, aumentando la productividad, la uniformidad del proceso y la fiabilidad en múltiples cámaras y materiales de sustrato.
Con estas prestaciones, el pirómetro 401M se posiciona como una herramienta clave para el avance de la precisión térmica en la fabricación de semiconductores y en los procesos industriales de deposición avanzada.
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